ASML申请使用机器学习生成晶片检查预测图像专利,生成经显影晶片的预测图像

ASML申请新专利：利用机器学习生成晶片检查预测图像

　　国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“使用机器学习来生成用于晶片检查的预测图像的系统和方法”的专利，公开号CN121762605A，申请日期为2020年9月。

　　专利摘要显示，提供了一种使用机器学习来生成用于晶片检查的预测图像的系统和方法。该系统和方法的一些实施例包括获取在被施加到晶片的光致抗蚀剂已被显影之后的晶片；对经显影的晶片的片段进行成像；获取在晶片已被蚀刻之后的晶片；对经蚀刻的晶片的片段进行成像；使用经显影的晶片的成像部分和经蚀刻的晶片的成像片段来训练机器学习模型；以及使用经蚀刻的晶片的成像片段来应用经训练的机器学习模型以生成经显影的晶片的预测图像。

　　一些实施例包括对经显影的晶片的片段进行成像；对经蚀刻的晶片的片段的一部分进行成像；训练机器学习模型；以及应用经训练的机器学习模型以生成经显影的晶片的预测蚀刻后图像。